發(fā)布日期：2020-9-4 11:25:00
深圳真空等離子清洗機(jī)真空等離子機(jī)：誠峰智造
產(chǎn)品概述
設(shè)備參數(shù)真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
誠峰智造（http://www.sfi-crf.com）是一家專業(yè)致力于提供等離子設(shè)備及工藝流程解決方案的高新技術(shù)企業(yè)。源于美國&德國30年P(guān)lasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術(shù)，公司全資擁有CRF品牌下等離子設(shè)備研發(fā)，生產(chǎn)，制造技術(shù)，設(shè)備范圍涵蓋汽車制造業(yè)。手機(jī)制造業(yè)，醫(yī)療行業(yè)，織物印染行業(yè)，重工業(yè)，半導(dǎo)體封裝行業(yè)，新能源行業(yè)，IC半導(dǎo)體領(lǐng)域，F(xiàn)PC/PCB領(lǐng)域，LED顯示屏組裝等行業(yè)。CRF誠峰智造，現(xiàn)已成為中國專業(yè)的等離子處理系統(tǒng)解決方案等離子設(shè)備供應(yīng)商。
深圳真空等離子清洗機(jī)真空等離子機(jī)：
真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-2L-S
名稱（Name）
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號(hào)（Model）
CRF-VPO-2L-S
控制系統(tǒng)（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
中頻電源功率（RF Power）
1000W/40KHz
容量（Volume ）
10L(Option)
層數(shù)（Electrode of plies ）
2(Option)
腔體規(guī)格（Area）
220(W)*230(D)*230(H)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2
產(chǎn)品概述
設(shè)備參數(shù)
產(chǎn)品特點(diǎn)
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
真空是一種依靠等離子體激活物質(zhì)去除表面污漬的清洗設(shè)備。它屬于電子工業(yè)的干洗，在真空泵制造過程中制造一定的真空條件以滿足清洗的需要，等離子體的清洗需要主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合，如低壓氣體輝光等。簡單地說，真空等離子清洗機(jī)需要在真空中進(jìn)行（通常大約100pa），因此需要真空泵。
主要工藝包括：首先將工件固定在真空室內(nèi)，將真空泵等設(shè)備啟動(dòng)真空放電至10pa左右；然后將等離子體清洗氣體引入真空室（根據(jù)氧、氫、氬、氮等不同清洗材料），并保持壓力在100pa左右；在真空室內(nèi)的電極和接地裝置之間加入高頻電壓，使氣體被滲透，等離子體被輝光放電離化；在等離子體完全覆蓋在真空室內(nèi)后開始清洗操作，清洗過程將持續(xù)幾十秒至幾分鐘。整個(gè)過程就是依靠等離子體在電磁場中移動(dòng)，轟擊被處理物體的表面，大多數(shù)物理清洗過程需要高能量和低壓力。
原子和離子的最大速度是在表面被轟擊之前實(shí)現(xiàn)的。因?yàn)樗鼤?huì)加快等離子體的速度，它需要高能量，這樣等離子體中的原子和離子就能更快。低壓是增加原子碰撞前的平均距離所必需的，即平均自由距離、路徑越長，離子轟擊待清潔物質(zhì)表面的概率越高。因此，實(shí)現(xiàn)了表面處理、清洗和刻蝕的效果（清洗過程在一定程度上是一個(gè)輕微的刻蝕過程）；清洗后，污垢和氣體排放，空氣回到正常的大氣壓力。
在清洗過程中，當(dāng)真空泵控制真空室時(shí)，氣體的流量決定了真空室的發(fā)光顏色：如果顏色重，真空度低，氣體流量大；如果真空度過高，氣體流量過小，則根據(jù)所需的處理效果確定真空泵的真空度。
真空等離子清洗機(jī)作為一種精密干洗設(shè)備，適用于混合集成電路、單片集成電路套管和陶瓷基板的清洗，可用于半導(dǎo)體、厚膜電路、封裝前元件、硅蝕刻、真空電子、連接器和繼電器的清洗。它還可用于塑料、橡膠、金屬和陶瓷的表面活化以及科學(xué)實(shí)驗(yàn)。
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