湖北真空等離子清洗設備廠家直銷
發布日期：2020-11-6 19:40:00
產品說明：
湖北真空等離子清洗設備廠家直銷：誠峰智造
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-10L-S
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射頻電源功率（RF Power）
600W/13.56MHz
容量（Volume ）
120L(Option)
層數（Electrode of plies ）
8(Option)
有效處理面積（Area）
400(L)*300(W)(Option)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、H2、CF4、O2
外形（Appearance ）
鈑金結構
產品特點
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板等離子表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
詳細參數：
湖北真空等離子清洗設備廠家直銷：誠峰智造
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-10L-S
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射頻電源功率（RF Power）
600W/13.56MHz
容量（Volume ）
120L(Option)
層數（Electrode of plies ）
8(Option)
有效處理面積（Area）
400(L)*300(W)(Option)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、H2、CF4、O2
外形（Appearance ）
鈑金結構
產品特點
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板等離子表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、涂覆等目的。
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
根據不同的等離子清洗機清洗法標準，可以分為：真空狀態等離子清洗、常壓狀態等離子、清洗低溫等離子清洗；也可以根據工作氣體分為：大氣等離子清洗機、氮氣等離子清洗機等。
低溫等離子設備其實也算是干洗法中的一種，和濕法清洗相比之下它具有工藝簡單，可控，而且產品可達到一次洗干凈，沒有殘留的目的。
而濕洗法它的最大的劣勢可能就是一次性洗不干凈，還會有殘留物，使用等離子設備進行的干洗它的反應是需要氣體的，而我們所使用的氣體大多數是無毒害的，并且濕洗法很多是使用了大量的溶劑，其中也包含了很多的化學成分，對人體都是有害的，對環境也會有影響。
在使用等離子清洗機進行等離子體處理的過程中，它所包括的是兩種清洗過程，一種是化學的反應，另一種是物理的反應。
其中以化學反應為主的等離子清洗機具有清洗速度非�？欤阅芎�，選擇性高，在對去除有機物，氧化物，以及做表面活化都有著相當好的功效。
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