半導體芯片行業，特別是在晶圓制造過程中對晶圓的純度要求很高，只有需要晶圓才能被視為合格。水滴角測量儀是評價等離子體清洗效果的一種有效工具。近些年以來，我國芯片行業發展迅速，對半導水滴測試角提出了更高的要求。

根據水滴角測試的基本原理，固體表面接觸角值或水滴角值不同于左、右、前、后，因此，水滴角測量儀器的算法采用符合界面化學基本原理的3D算法（adsa-realdrop）。同時，硬件必須具有微電平控制精度的二維水平調節表和微電平控制精度的二維水平調節機構。

2.水滴角度測量儀的應用特性要求微液滴（盡可能在1ul內，使用超細針）在一小范圍內左、右、前、后由于小變化造成的清洗效果差。